Tecnología de fabricación de detector de Silicio-Litio con juntura superficial
Guardado en:
| Autores: | , , |
|---|---|
| Formato: | artículo original |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de Publicación: | 2016 |
| Descripción: | Los sensores de radiaciones nucleares con base en Silicio, transforman la carga producida dentro de este semiconductor, producto de la incidencia de partículas y rayos X, en pulsos de voltaje a la salida del preamplificador. El detector planar de Silicio-Litio con juntura superficial es básicamente un diodo de estructura PIN. Por medio de la difusión y deriva del Litio en el Silicio, se crea la zona compensada, donde interactúan las radiaciones incidentes, produciendo una señal eléctrica proporcional a la energía depositada en el detector. El proceso tecnológico comprende diferentes etapas, algunas de ellas complejas y de larga duración, las cuales exigen además un control sistemático.Se realizó la puesta a punto del proceso tecnológico de fabricación de detectores de este tipo, caracterizándose eléctricamente en los diferentes pasos. Un dispositivo fue encapsulado y montado dentro de un criostato para trabajar a temperatura del nitrógeno líquido. El detector fue evaluado con un sistema espectrométrico y cuenta con una resolución energética de 180 eV para la línea de 5,9 KeV de la fuente de Fe-55, lo que ha permitido trabajar con él en fluorescencia de rayos X dispersiva en energía. |
| País: | RepositorioTEC |
| Institución: | Instituto Tecnológico de Costa Rica |
| Repositorio: | RepositorioTEC |
| Lenguaje: | Español |
| OAI Identifier: | oai:repositoriotec.tec.ac.cr:2238/8282 |
| Acceso en línea: | https://revistas.tec.ac.cr/index.php/tec_marcha/article/view/2861 |
| Access Level: | acceso abierto |