Evaluación del funcionamiento de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma mediante la síntesis de nanotubos de carbono de capa simple

 

Gorde:
Xehetasun bibliografikoak
Egilea: Rodríguez Fonseca, María Gabriela
Formatua: proyecto fin de carrera
Argitaratze data:2016
Deskribapena:UCR::Docencia::Ingeniería::Facultad de Ingeniería::Escuela de Ingeniería Química
Herria:Kérwá
Erakundea:Universidad de Costa Rica
Repositorio:Kérwá
OAI Identifier:oai:kerwa.ucr.ac.cr:10669/94811
Sarrera elektronikoa:https://repositorio.sibdi.ucr.ac.cr/handle/123456789/10941
https://hdl.handle.net/10669/94811
Gako-hitza:CARBONO
DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR
DISPOSITIVOS DE PLASMA - EVALUACION
ESPECTROSCOPIA DE RAMAN
MICROSCOPIA ELECTRONICA
MICROSCOPIA ELECTRONICA DE TRANSMISION
MICROSCOPIOS ELECTRONICOS DE BARRIDO
NANOTUBOS
PLASMA (GASES IONIZADOS)
REACTORES QUIMICOS - EVALUACION