Evaluación del funcionamiento de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma mediante la síntesis de nanotubos de carbono de capa simple

 

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Auteur: Rodríguez Fonseca, María Gabriela
Format: proyecto fin de carrera
Date de publication:2016
Description:UCR::Docencia::Ingeniería::Facultad de Ingeniería::Escuela de Ingeniería Química
Pays:Kérwá
Institution:Universidad de Costa Rica
Repositorio:Kérwá
OAI Identifier:oai:kerwa.ucr.ac.cr:10669/94811
Accès en ligne:https://repositorio.sibdi.ucr.ac.cr/handle/123456789/10941
https://hdl.handle.net/10669/94811
Mots-clés:CARBONO
DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR
DISPOSITIVOS DE PLASMA - EVALUACION
ESPECTROSCOPIA DE RAMAN
MICROSCOPIA ELECTRONICA
MICROSCOPIA ELECTRONICA DE TRANSMISION
MICROSCOPIOS ELECTRONICOS DE BARRIDO
NANOTUBOS
PLASMA (GASES IONIZADOS)
REACTORES QUIMICOS - EVALUACION