Evaluación del funcionamiento de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma mediante la síntesis de nanotubos de carbono de capa simple

 

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ग्रंथसूची विवरण
लेखक: Rodríguez Fonseca, María Gabriela
स्वरूप: proyecto fin de carrera
प्रकाशन तिथि:2016
विवरण:UCR::Docencia::Ingeniería::Facultad de Ingeniería::Escuela de Ingeniería Química
देश:Kérwá
संस्थान:Universidad de Costa Rica
Repositorio:Kérwá
OAI Identifier:oai:kerwa.ucr.ac.cr:10669/94811
ऑनलाइन पहुंच:https://repositorio.sibdi.ucr.ac.cr/handle/123456789/10941
https://hdl.handle.net/10669/94811
संकेत शब्द:CARBONO
DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR
DISPOSITIVOS DE PLASMA - EVALUACION
ESPECTROSCOPIA DE RAMAN
MICROSCOPIA ELECTRONICA
MICROSCOPIA ELECTRONICA DE TRANSMISION
MICROSCOPIOS ELECTRONICOS DE BARRIDO
NANOTUBOS
PLASMA (GASES IONIZADOS)
REACTORES QUIMICOS - EVALUACION